
美国商务部签署了多项意向书,拟根据《芯片与科学法案》(CHIPS and Science Act)提供高达3.89亿美元的研发奖励,涉及领域包括核聚变电力电子、人工智能(AI)数据中心电力输送以及半导体材料。拟议的资金包包括:向Helion公司提供高达1.75亿美元,向Commonwealth Fusion Systems公司提供高达8500万美元,向Vertical Semiconductor公司提供高达7300万美元,以及向Sibelco公司提供高达5600万美元。作为获得奖励的条件,商务部将在每家公司中持有少数、非控股且无投票权的股权。
Vertical Semiconductor的项目提供了最直接的AI基础设施应用案例:开发垂直氮化镓(GaN)FinFET功率晶体管,并针对2.5兆瓦(MW)的AI机架进行演示。这家麻省理工学院(MIT)的衍生公司表示,该举措将在数据中心电源链中部署这些器件,设计目标是将能源损耗降低30%,并将物理占用空间减少50%。需要注意的是,这些是开发目标;公告中并未指定比较基准,也未报告已完成的机架演示结果。
Helion公司表示,其拟议的奖励将伴随5000万美元的私人投资,用于支持华盛顿州的半导体研发、先进封装和制造能力,以及与佛蒙特州合作伙伴进行的工具开发。Commonwealth Fusion Systems拟议的工作涵盖用于等离子体加热、诊断和高辐射环境的电子设备。Sibelco的项目将通过浸出、热氯化、产品工程和试点设施来推进高纯度石英的发展。目前这些宣布仍处于意向书阶段;Sibelco明确指出,尽职调查、谈判和政府批准仍是待完成的步骤。
| CHIPS研发:拟议奖励一览 | |
| Helion | • 高达1.75亿美元 • 用于核聚变的高压开关和脉冲功率模块。 |
| Commonwealth Fusion Systems | • 高达8500万美元 • 射频加热、诊断和抗辐射电子设备。 |
| Vertical Semiconductor | • 高达7300万美元 • 垂直GaN技术;目标是演示2.5 MW AI机架。 |
| Sibelco | • 高达5600万美元 • 高纯度石英加工与验证。 |
| 奖励状态 | • 意向书阶段;拟议资金。 |
“电力是AI基础设施建设中最显著的瓶颈,”Vertical Semiconductor的首席执行官兼联合创始人Cynthia Liao表示。
分析
技术上的共同点在于电力转换。Vertical Semiconductor将其器件定位为适用于向800 VDC(直流)配电过渡的场景,而Helion则需要能够反复交付和回收大量能量脉冲的开关。在数据中心中,提高配电电压可以在给定功率水平下降低电流,但转换为处理器所需的更低电压仍然是必要的。作为一个说明性计算,在考虑转换损耗之前,2.5 MW的负载在800 V电压下将抽取3,125安培的电流。因此,较高的配电电压仅解决了工程问题的一部分;转换、保护和冷却仍然至关重要。
机架演示仍是一个开发里程碑,而非商业部署的证据。有益的后续披露应包括效率测量边界、运行负载、热条件以及Vertical Semiconductor百分比目标背后的基准。Sibelco的工作解决了另一个约束条件:半导体生产所用材料的加工和验证。总体而言,这些项目将能源系统与构建它们所需的器件和材料联系起来,但仍留有大量的开发和奖励最终确定工作有待完成。
| 公司简介:Vertical Semiconductor | |
| 业务 | 麻省理工学院衍生公司,开发垂直GaN功率晶体管。 |
| 领导层 | Cynthia Liao — 首席执行官兼联合创始人 Joshua Perozek博士 — 首席技术官兼联合创始人 Tomas Palacios教授 — 顾问兼联合创始人 |
| 技术 | 垂直GaN FinFET;电力转换。 |
| 应用 | AI数据中心;高性能计算;电网基础设施。 |
| 开发进展 | 拟议的CHIPS支持研发;机架演示仍为目标。 |
| 网站 | www.verticalsemi.com |
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