最新研究报告指出,尽管EUV光刻机出口受限,但中国大陆晶圆制造企业近年来不断采购浸没式DUV光刻设备,已构建起可观的先进光刻能力储备。这些设备足以支撑一定规模的7纳米级芯片生产,可能对现有出口管制措施产生一定削弱效果。
功能建议、内容纠错或使用问题,请留下联系方式,我们会尽快处理。
品牌合作、商务对接、内容共建等,请留下联系方式,我们会尽快与您沟通。
欢迎投递行业稿件。请填写联系方式并上传 Word 文档(.doc / .docx),我们会尽快审阅回复。
仅支持 .doc / .docx,建议不超过 2MB(受服务器上传限制)
如果您希望与光互连开展更多商务合作,请发邮件至:
如果您对本网站有任何建议和反馈请联系
简体中文 English