SPIE Advanced Lithography + Patterning 是 聚焦半导体光刻与图形化的国际技术会议，在美国圣何塞举办，围绕半导体制造中的图形化工艺与技术进展展开交流。 会议专题覆盖光学与 EUV 纳米光刻、DTCO 与计算图形化、量测、检测与过程控制、新型图形化技术、图形化材料与工艺进展、先进刻蚀技术以及纳米图形化工艺集成等方向，并设 AI/ML、可持续性、随机效应、先进封装与 EPE/套刻等应用议题。 同期展览集中呈现光刻设备、半导体与封装材料、光刻胶与 EUV 材料、电子束光刻系统、光学元件与薄膜、传感器与测量设备、显微镜与成像系统、激光器与数据处理软件等。 会议服务半导体制造企业、研发与工艺工程师、材料与设备供应商及科研人员，参会者以研发和产品开发岗位为主，并同期开办短期课程。
主办：国际光学与光子学学会
