光源与激光器

连续波光源

Continuous Wave Laser · CW
2026 高频词图解CW

定义

只输出恒定光功率、不承载调制信息的激光器,调制工作交给外部的调制器完成。

图解

硅光 PIC 的典型构成 · 硅自己不会发光,光源必须从外面来外置光源InP CW 激光器ELS硅光芯片 SiPh PIC · CMOS 晶圆级制造光栅耦合器或端面耦合分束 / 合波MZI · AWG调制器阵列MZM / 微环探测器阵列Ge PD硅波导 · 无源光路(把以上器件连起来的那层)电接口 / DSP驱动与跨阻把上排的「调制器阵列」换成 TFLN 薄膜铌酸锂调制器,就是当前最受关注的异质集成方案。CPO/NPO 的底座通常就是这块芯片,它决定了整机能不能做小、做便宜、做量产。
硅光芯片典型构成 硅光芯片把调制器、探测器、分束器、波导做在同一片硅上,用 CMOS 产线量产,这是它能做到低成本高集成的根本原因。但它不能自己发激光——光源必须从外部引进来,这就是「外置光源 ELS」在 CPO/NPO 方案里反复出现的原因。
CPO / NPO 里「光从哪来」的标准答案:光源外置,再用光纤分配外置光源 ELSCW DFB 激光器多路冗余 + 监测可插拔 / 可更换Shuffle 光纤分配按需把光分配到各光引擎光引擎 1调制器 + 探测器光引擎 N不含激光器交换 ASIC共封装 / 近封装为什么要把光源拿出来激光器是光模块里最怕热、寿命最短、也最容易坏的部分。把它从 ASIC 旁边挪到机箱其他位置(甚至做成可插拔),既避开了 ASIC 的高温区,也保住了「可单独更换」这条运维底线——这是 CPO 可维护性难题的一条绕行方案。
外置光源 ELS 与 Shuffle 外置光源(ELS)把激光器从光引擎里搬出来,集中放在温度更友好的位置,再通过光纤 Shuffle 分配光功率。它同时解决了三个问题:避开 ASIC 高温、保住可更换性、把多路光源做冗余。这也是 NPO 方案里被反复提到的核心部件。

说明

连续波光源(CW 光源)指输出功率恒定、不做任何调制的激光器。在硅光与 CPO 架构中,它是「供光单元」:只负责稳定发光,调制工作全部交给芯片上的调制器完成。

这种分工的原因在于硅本身不能有效发光。既然光源必须来自 InP 等外部材料,最自然的架构就是把「发光」与「调制」拆成两个独立优化的部分——光源追求功率、稳定性与寿命,调制器追求带宽与线性度。

CW 光源的选型要点包括:输出功率(决定能带几个光引擎)、线宽(影响相干性)、相对强度噪声、以及高温下的功率衰减(因为外置光源仍位于机箱内)。

关键数字

不做调制只提供稳定光功率
外挂 InP源于硅不能有效发光
功率 / 线宽 / RIN核心选型指标

关键要点

  • 硅光平台的标准搭配:CW 光源供光 + 硅光芯片调制。
  • NPO 的低功率方案倾向使用 150–200mW 级 CW 光源,与 LPO 形态相近且无需 DSP。
  • 功率、波长稳定性与电光转换效率是核心指标。
← 上一个词条外置光源 下一个词条 →高功率 CW DFB