封装与集成工艺

先进封装

Advanced Packaging
2026 高频词图解

定义

在芯片与基板层面完成高密度互连与多芯片集成的工艺体系,是 CPO 落地的物理前提。

图解

CPO 的物理底座 · 2.5D 是「并排放在转接板上」,3D 是「叠起来」2.5D 封装封装基板硅转接板 Interposer(含 TSV)ASIC交换 / 计算HBM内存光引擎OE光电元件并排放在同一转接板上电距离缩短到百微米级,工艺相对成熟当前 CPO 主流实现路径3D 封装封装基板底层芯片(含 TSV 硅通孔)垂直走线替代水平绕线上层芯片或光引擎HBM 堆叠元件垂直堆叠,走线更短、密度更高散热路径变长,对良率与热管理挑战更大已有厂商展示 3D CPO 方案,量产尚早
2.5D 与 3D 封装剖面 2.5D 封装把 ASIC、HBM、光引擎并排放在同一块硅转接板上,靠转接板内的布线互联;3D 封装则把它们垂直叠起来,走线更短、密度更高,但散热与良率更难控制。CPO 的良率问题很大程度上是先进封装的良率问题,而不是光器件本身的问题。

说明

先进封装指 2.5D、3D 堆叠、扇出型封装等技术,通过硅中介层、硅通孔(TSV)、重布线层等结构,在封装内实现高密度芯片间互连。它是 CPO 能够成立的物理底座。

一个经常被忽略的事实是:CPO 的良率问题很大程度上是先进封装的良率问题,而不是光器件本身的问题。当 ASIC、HBM、光引擎要在同一基板上集成时,任何一个环节的缺陷都可能让整个封装报废。

先进封装的产能与工艺成熟度,直接决定了 CPO 的导入节奏。这也是为什么业界对 CPO 的谨慎预期,往往聚焦在「封装良率爬坡慢于预期」这一点上。

关键数字

转接板 / TSV / RDL核心技术手段
良率CPO 导入节奏的真实瓶颈
共封装CPO 的物理基础

关键要点

  • 2026 年先进封装设备在硅光集成精度与可靠性上的突破,是清障 xPO 部署的关键。
  • 核心装备环节:亚微米级贴装、热压键合(TCB)、无助焊剂键合、全自动高精度多芯片贴装。
  • 封装良率爬坡速度是 CPO 从「全面量产」到「大规模覆盖」之间最主要的关卡之一。
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